真空メッキ装置 下地・膜改善対策：

真空メッキ装置 下地・膜改善対策：

(1) 脱脂・除染処理を強化します。 超音波洗浄の場合は、脱脂機能に重点を置き、脱脂液の効果を確保する必要があります。 手で拭く場合は、掃除の前に炭酸カルシウムの粉末で拭くことが考えられます。

(2) めっき前のベーキングを強化します。条件が許せば、基板温度は 300 度以上に達することができ、できれば一定温度で 20 分以上、基板表面の水蒸気と油蒸気を除去することができます。できるだけ揮発させてください。 ※注意：温度が高くなると基材の吸着能力が大きくなり、ホコリも吸着しやすくなります。 したがって、真空チャンバーの清浄度を向上させる必要があります。 そうしないと、めっき前の基板にゴミが付着し、膜強度に影響を与えるだけでなく、その他の欠陥も発生します。 (真空中での基板上の水蒸気の化学的脱離温度は 260 度以上です)。 ただし、すべての部品を高温で焼く必要はありません。 一部の硝酸塩材料は高温に耐えますが、皮膜強度が高くなく、色斑が発生します。 これは、応力および材料の熱的マッチングとより大きな関係があります。

(iii) 条件が許せば、ユニットにはコンデンサー (PLOYCOLD) が装備されており、ユニットの真空排気速度を高めるだけでなく、基板から水蒸気、油、ガスを除去するのにも役立ちます。

(iv) 蒸着の真空度を向上させる。 1 メートルを超えるコーティング機の場合、蒸着の開始真空度は 3*10-3Pa より高くなければなりません。 塗装機が大きいほど蒸着開始真空度は高くなります。

真空電気めっき装置 基板とフィルムの組み合わせ

一般に、反射防止フィルムでは、これがフィルムの弱点の主な原因です。 基板の表面には、光冷間加工および洗浄プロセス中に必然的に何らかの有害な不純物が表面に付着するため、基板の表面には常に光冷間加工の影響により何らかの損傷層が存在し、不純物（たとえば、ダメージ層に浸透する水蒸気、油蒸気、洗浄液、ワイピング液、研磨粉等（水蒸気が主）など）は、通常の方法では除去することが困難であり、特にダメージ層の場合には、通常の方法では除去することが困難である。親水性に優れ、吸着力も強い。 フィルム材料の分子がこれらの不純物の上に蓄積すると、フィルム層の密着性に影響を与え、フィルムの強度にも影響を与えます。

また、基材の親水性が悪く吸着力が悪い場合には、フィルム層への吸着力も悪くなり、フィルム強度にも影響を及ぼします。

硝酸塩材料は化学的安定性が悪く、前処理工程における循環過程で基材表面が腐食され、腐食層や加水分解層（おそらく局所的で極薄）が形成されています。 腐食層や加水分解層にめっきした場合、吸着性が悪く、皮膜の剛性が劣ります。

基材表面に汚れ、油汚れ、灰色シミ、よだれ汚れ等があり、局部皮膜層の密着性が悪く、局部皮膜の密着性が低い。

www.スーパービーター.com