真空塗装機のポンピングが不均一になると塗装の均一性に影響します

真空塗装機のポンピングが不均一になると塗装の均一性に影響します

コーティング機のポンピングが不均一であると、コーティングの均一性に影響を与えます。 基板がきれいであることが重要です。 真空コーティングの前に、ワークピースの脱脂、汚染除去、脱水の目的を達成するために、基板の表面を注意深く洗浄する必要があります。 基板表面の汚れは、加工時や輸送時に部品に付着するさまざまなゴミ、グリース、研磨ペースト、汗などによって発生します。 湿気の多い環境では基板表面が酸化しやすく、酸化膜が形成されてガスを吸収します。 これらの汚れは、脱脂または化学的方法で洗浄できます。 清潔な基板は直接屋外に置かず、汚染を減らすために密閉容器に保管する必要があります。 塗装室内には粉塵が蓄積しますので、塗装室内を清掃し、ベーキング、脱ガスを行い、クリーンな環境に設置してください。 拡散ポンプの油戻りに注意してください。 コーティングには樹脂、シリコーン、ケイ酸、ポリマーなど多くの原料があり、副原料の割合や配合が異なり、塗膜も異なります。

真空コーティング機中空陰極技術

イオンコーティング装置は 1960 年代に DM Mattox によって提案された理論に由来し、対応する実験は当時から始まりました。 1971 年まで、Chamber et al. 電子ビームイオンコーティング技術を公開。 2009 年の Bunshah レポートでは、TiC や TiN などの超硬膜タイプがこの時期に製造されていたと指摘しています。 1972 年にも、Smith と Moley はコーティングプロセスにホローカソード技術を使用しました。 1980年代に入ると、我が国のイオンプレーティングはついに工業応用レベルに達し、真空マルチアークイオンプレーティングやアーク放電イオンプレーティングなどのコーティングプロセスが次々と登場しました。

真空成膜機は蒸着式とスパッタリング式の2種類に分かれます。

イオンコーティング機とは主に高真空下で行う必要のあるコーティングのことを指し、真空蒸着コーティング機、真空マルチアークイオンコーティング機、真空中周波マグネトロンスパッタリングコーティング機、多機能中間膜など多くの種類が含まれます。周波数マグネトロンスパッタリングマルチアーク複合イオンコーティング機、真空光学（電子ビーム蒸着）コーティング機およびその他一連の真空コーティング装置は、主な考え方が蒸着とスパッタリングの2種類に分けられます。

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