真空めっき装置の継承回路 真空めっきスケール

真空めっき装置の継承回路 真空めっきスケール

真空コーティングはエレクトロニクスにおいて重要な役割を果たします。 あらゆるサイズの連続回路。 導電膜、絶縁膜、保護膜はメモリ、演算器、論理素子などに使用されます。 クロム膜は回路作製時のマスクとして使用されます。 磁束、磁気ディスク半導体レーザー、ジョセフソン素子、電荷結合素子（CCD）などにもさまざまな薄膜が使われています。

真空めっき装置 真空成膜光学系

光学分野では、光学ガラスまたは石英の表面を、さまざまな物質の膜の 1 つまたは複数の層でコーティングして、高反射または非反射 (つまり、反射防止コーティング) にするか、または任意の割合で反射または透過にするか、またはカラー フィルターは、ある波長を吸収し、別の波長を透過するように作成できます。 大口径天体望遠鏡や各種レーザーから新築ビルの大型窓のコーティングまで、高反射コーティングが必要とされています。 反射防止コーティングは写真や各種レーザーに広く使用されており、新築ビルの大きな窓ガラスに至るまで、非常に必要です。 反射防止膜はカメラやテレビカメラのレンズに広く使われています。

真空電気めっき装置の真空コーティングの目的

真空コーティング技術は、真空応用技術の重要な分野です。 光学、エレクトロニクス、エネルギー開発、物理化学機器、建設機械、包装、民生製品、表面科学、科学研究で広く使用されています。 真空成膜法には主に蒸着めっき、スパッタリングめっき、イオンプレーティング、ビーム蒸着めっき、分子線エピタキシーなどがあります。 化学気相成長法もあります。 真空コーティングの目的が材料表面の物理的および化学的特性を変化させることである場合、この技術は真空表面処理技術の重要な部分です。

真空電気めっき装置でのマグネトロンスパッタリングによって形成された窒化物または酸化物

そこで人々は高周波電源を使用し、ループに強力なコンデンサを追加します。 このようにして、ターゲット物質は絶縁回路内のコンデンサとなります。

しかし、高周波マグネトロンスパッタリング電源は高価であり、スパッタリング速度が非常に小さく、接地技術も非常に複雑であるため、大規模に使用することが困難である。 この問題を解決するために、マグネトロン反応性スパッタリングが発明されました。 つまり、金属ターゲットを使用し、アルゴンと窒素や酸素などの反応性ガスを添加します。 金属ターゲットが部品に当たると、反応性ガスと結合して、エネルギー変換により窒化物または酸化物が形成されます。

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