真空銀めっきは、スパッタリングされるターゲット材料の実際の化学組成に依存します。

真空銀めっきは、スパッタリングされるターゲット材料の実際の化学組成に依存します。

ほとんどのプロセス制御条件と同様に、その効果は、スパッタリングされるターゲット材料の実際の化学組成と物理的特性、および堆積に関連するプロセス条件に大きく依存します。 通常、このような微妙な影響は、勾配が小さい、より小さい形状のスパッタリング ターゲットではもはや問題になりません。 温度勾配が大きく、拡散プロセスの熱力学や反応速度が大きく変化する大型のターゲットの場合、ターゲット内の内部応力が大きくなり、ターゲットの亀裂が生じる可能性があります（これも硬化した組成物に関連する機械的特性によって異なります）。 ）、焼結時の油圧を解放すると剥離する場合もあります。

真空銀化プラズマは固定エネルギーを提供します

炭素棒によって材料に加えられる圧力はターゲット表面の全面にわたって一方向に加えられるため、時間の経過とともに熱拡散勾配が発生します。 その結果、硬化したターゲット全体の密度がある程度不均一になります。 これにより、ターゲット材料内に応力差が生じ、堆積中のスパッタ収量が変化します。 任意の出力密度において、プラズマは、プラズマに含まれるイオンの一定速度を含む固定エネルギーを提供します。 運動量が固定されたイオンはターゲット表面に均一に衝突します。 ただし、ターゲット材料が異なる結合エネルギーを持つ原子で構成されている場合、スパッタリング周波数も異なります。 ターゲット表面上の衝突位置が異なると、多かれ少なかれターゲット材料の原子がイオン衝突の関数としてターゲット表面からスパッタされます。

真空銀メッキの焼結過程で素材に生じる温度差

ホットプレス用途の特定のモデルでは、硬化する初期粉末を含むカーボン型内またはその周囲に配置されたヒーターによって熱が伝導されると述べました。 発熱体に通電すると、カーボン金型がゆっくりと加熱され、最終的には金型キャビティ内の粉末が加熱されます。 同時に、粉末は、幾何学的に対向する一連のカーボン圧子を通して油圧プレスで機械的に圧縮されます。 これは、発熱体から発生した熱がカーボン型を通って圧縮される粉末に伝導される必要があることを意味します。 丸いターゲットの場合、これは、熱がまず金型内の粉末の周囲に伝わり、その後、時間の経過とともに材料の中心に伝わることを意味します。 これにより、固体に拡散する材料内に熱ヒステリシスが生じます。さらに重要なことに、焼結中に材料全体に温度差が生じます。 焼結材料の周辺領域は、固化材料の中央領域よりも、より早く、それに応じてより長く、加熱要素によって生成される熱にさらされる。 外層の粉末は中央領域の粉末よりも前に拡散して固化します。 これらの外側領域が強化され始めると、材料の局所的な密度が増加し、局所的な体積が減少します。

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