中性粒子を使用して膜を形成する真空めっき

中性粒子を使用して膜を形成する真空めっき

コーティングは高い硬度と耐摩耗性を備えています。 工具に使用すると、工具の切削速度と寿命を効果的に向上させることができ、切削加工の改善と加工精度の向上にもつながります。 その後、防食皮膜、超硬質皮膜など徐々に開発されていきました。 イオンプレーティングされたTiN皮膜は黄金色で、時計、文具、食器などの真空メッキに使用されており、見た目が美しいだけでなく、耐食性、耐熱性にも優れています。

通常、イオンプレーティングのコーティング層は非常に薄いため、溶射物の表面はクロム、ニッケル、金、さまざまな色のグラデーションなどの鏡面ハイライトを示します。 真空蒸着・スパッタリング成膜 従来の蒸着・スパッタリング成膜では、主に中性の粒子を用いて成膜を行っており、成膜粒子の基板への到達速度が遅いため、成膜速度の低下や膜の密着性が悪いなどの問題がありました。 、膜が緻密でないなどの問題がありますが、イオンプレーティングは上記の問題をうまく解決できます。

真空メッキ膜の密着力が強い

フィルム層は強い接着力を持っています。 真空メッキプロセス中、一部の電子が基板の表面に衝突し、表面原子を活性化して洗浄効果を生み出します。コーティング材料のスパッタリングによって得られるエネルギーは、蒸着によって得られるエネルギーよりも高くなります。 このような高エネルギーを持ったコーティング原子が基板の表面に衝突すると、1 ～ 2 桁も多くのエネルギーが基板に伝達され、より多くの熱エネルギーが生成され、電子によって活性化された原子の動きが加速されます。コーティング材料原子の一部が先に融合し、他のコーティング材料原子が次々に堆積して膜を形成し、膜層と基材との結合力を強化します。

幅広いコーティング材料に対応。スパッタリング皮膜はアルゴンイオンを高速衝突させてスパッタリングするため、厚さは許容範囲内であり、電流制御も良好で、何度コーティングを繰り返しても可能、膜厚変化なし、膜厚の安定性は膜厚の制御性と再現性が良好であるためと考えられます。

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