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真空ブリスター機ブリスター素材ポリエチレン不飽和基

ポリエチレンは、光酸化、熱酸化、オゾンによる分解、紫外線の作用により容易に劣化します。 カーボンブラックはポリエチレンに対して優れた遮光効果を発揮します。 照射後、架橋、鎖切断、および不飽和基の形成が発生する可能性があります。

 

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