電気加熱管による修飾キトサンの電気めっきおよび架橋による重金属廃水の処理

電気加熱管による修飾キトサンの電気めっきおよび架橋による重金属廃水の処理

架橋修飾は、直鎖状のキトサン分子のネットワーク構造を形成することにより、キトサンの安定性を効果的に向上させることができます。 さらに、架橋修飾により、キトサンの吸着選択性を向上させることができます。 ただし、架橋修飾により、キトサン分子のアミノ基の数が減少し、キトサンの吸着容量が低下する可能性があります。 重金属イオンや架橋剤の性質などの影響により、架橋キトサンの重金属吸着能は必ずしもキトサンよりも高いとは限りません。 したがって、より良い吸着効果を得るためには、適切な架橋剤を選択する必要があります。 一般的に使用される架橋剤には、エピクロロヒドリン、グルタルアルデヒド、グリオキサール、ホルムアルデヒドなどがあります。 架橋方法には、直接法とテンプレート法があります。

近年、テンプレート合成は、特定の「メモリー」機能を備えたポリマー吸着キレート樹脂を調製するための新しい方法になりました。 鋳型イオンを正確に収容する「穴」が分子内に保持されているため、鋳型イオンに対する強い認識能力（つまり「記憶」能力）を持っています。 黄小嘉ら。 亜鉛イオンを鋳型として用いたグルタルアルデヒド架橋キトサン樹脂の合成は、プラスに影響を与えるだけでなく、[ρ(Zn2 plus ) は1g/Lの濃度で強い「記憶」能力を持ち、Cd2 plusに対して高い吸着能力を持っていることを発見しました。および Hg2 plus は同じ質量濃度です。 また、酸性条件下での再生時にも軟化・溶解せず、良好な再生性能を発揮します。 Sun Shengling ら。 銅塩［CuSO4・5H2O、Cu（Ac）2・H2O、Cu（NO3）2・6H2O、CuCl2・2H2O］を金属イオンの鋳型として合成したグルタルアルデヒド架橋樹脂の吸着性能を研究しました。 その結果、Cu2 plus 、Co2 plus 、Ni2 plus 、および Zn2 plus 硫酸塩の各銅塩テンプレートによって架橋された CTS (キトサン) の吸着容量は、Co2 plus plus の吸着容量と同様であることが示されました。

ハン・デヤン 他 架橋キトサン磁気ミクロスフェアを研究し、Pb2 プラスと Cu2 プラスに対してそれぞれ 72.0mg/g と 48.3mg/g の吸着容量を持っています。 磁性微小球は、消失しにくく、再生しやすいという特徴があります。 Li Jiping は、脱アセチル化度の高いキトサンを使用して自作の磁性流体をカプセル化し、それをグルタルアルデヒドで架橋して、希土類イオン (La3 plus 、Nd3 plus 、Eu3 plus 、Lu3 plus ) に対する吸着効果が高い磁性キトサン (MCG) を生成しました。 . 最高の吸着率は 99% 以上に達し、再利用性に優れています。 その吸着挙動はラングミュア等温線を満たしています。

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