電気加熱管へのグラフト修飾キトサンの電気めっきによる重金属廃水の処理

電気加熱管へのグラフト修飾キトサンの電気めっきによる重金属廃水の処理

グラフト修飾とは、キトサンまたは架橋キトサン分子に官能基（カルボキシル、アミノ、または硫黄含有基など）をグラフトすることを指し、キトサンの吸着部位の数を増やし、シェルpHの適用範囲を広げます。吸着選択性を向上させます。 一般的なグラフト剤は、クラウン エーテルとシクロデキストリンです。

Tan Shuying等。 ジベンゾ 16- クラウン-5 クロロアセテート クラウン エーテルをシッフ塩基型キトサン クラウン エーテル CT-15 C および CT-18 C にそれぞれグラフトし、1、4- を調製するキトサン クラウン エーテル CT-15CAC および CT-18CAC。 CT-15C、CT-18C、1、4-キトサン クラウン エーテル CT-15CAC、1、4-キトサン クラウン エーテル CT{{15 }}Pd2 plus 、Ag plus 、Pt4 plus 、Au3 plus 、Cu2 plus 、Hg2 plus を吸着するCAC 重金属イオン Pd2 plus 、Ag plus 、Pt4 plus 、Au3 plus 1,4-キトサン クラウン エーテル CT-15CAC および 1,4-キトサン クラウン エーテル CT-18CAC の吸着選択性は CT-15C より優れており、 CT-18C. Pd2 プラス、Cu2 プラス、および Hg2 プラスの共存系では、Pd2 プラスに対して有意な吸着選択性があります。 王錦濤ほか NaBH4還元マイクロ波照射法を用いてバニリングラフト化キトサンを合成し、修飾キトサンを25度でのNi2+、Mn2+、およびCr6+の吸着に使用した。 結果は,修飾キトサンがNi2+,Mn2+,およびCr6+に対して良好な吸着性能を有し,吸着量がそれぞれ116.23,63.83,および47.27mg/gであることを示した。 修飾キトサンによる Ni2 プラス、Cr6 プラスの吸着の最適 pH は 3 であり、Mn2 プラスの最適 pH は 4 でした。 グラフト試薬としてラセミ環状ジアミンクラウンエーテルを使用して、新規グラフト化キトサンクラウンエーテルを合成しました。 キトサンの環状ジアミン基は、ベンズアルデヒドとキトサンの反応によって保護され、N-フェニルメチレンキトサン (CTB) が形成されます。 ラセミ シクロジアミン クラウン エーテルは、エピクロロヒドリンと反応して、ラセミ シクロジアミン N-フェニルメチレン キトサン (CTAB) を形成します。 シッフ塩基は希グリコール酸溶液で除去され、キトサンクラウンエーテル（CTDA）が得られます。 実験は、グラフトされたキトサンクラウンエーテルが、Pb2 plus 、Cu2 plus 、および Cd2 plus イオンの存在下で Cu2 plus に対して良好な選択吸着能力を持ち、その選択吸着能力がキトサンの選択吸着能力よりも優れていることを示しています。

ラメッシュ等。 EGDE架橋キトサンをグリシンでグラフト化して、製品架橋キトサン樹脂（GMC-CR）を得ました。 pH 1-4 では、GMCCR は Au3 plus 、Pt4 plus 、および Pd2 plus に対して良好な吸着効果を示します。 ナリニ等。 グラフトキトサンミクロスフェア（CMCB）とキトサンシート（CMCF）のCr6プラスの吸着容量が大幅に増加し、両方とも高電解質濃度でCr6プラスの高い吸着容量を維持できることがわかりました。 バンダナ・シン 他 マイクロ波照射下でキトサンをポリアクリルアミドでグラフト化すると、Zn2 plus の吸着性能が高いグラフト共重合体が得られます。

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