真空電気めっきのスパッタ膜の特性と均一性は、蒸着膜よりも優れています。

真空電気めっきのスパッタ膜の特性と均一性は、蒸着膜よりも優れています。

真空蒸着とは、ワークを電気めっき機に入れ、室内の空気を排気することです。 一定の真空度に達した後、室内のタングステン線を電気で加熱します。 タングステン線の上に置かれた金属線は一定の温度に達すると蒸発し、室内でワークを回転させるとワーク表面に均一に堆積して金属膜が形成されます。 一般的な真空めっき処理金属はアルミニウム、ニッケル、銅などです。 ただし、融点、プロセス制御、その他の理由によります。

真空スパッタリングでは、主にグロー反電気を利用してアルゴンARイオンをターゲット表面に衝突させ、ターゲット原子を弾き出して基板表面に堆積させて薄膜を形成します。 スパッタ膜の特性や均一性は蒸着膜に比べて優れていますが、成膜速度は蒸着膜に比べて非常に遅くなります。 ほぼすべての新しい真空電気めっき処理装置は、磁石を使用して電子をらせん状に移動させ、ターゲット周囲のアルゴンガスのイオン化を促進します。これにより、ターゲットとアルゴンイオンの衝突確率が増加し、スパッタリングレートが向上します。

真空メッキの装飾後処理

金属めっき加工において、加飾後加工は最も一般的な加工フローです。 模造金、模造銀、アンティーク銅、ブラッシング、着色または染色、およびコーティングのその他の技術的処理など。

これらの処理のほとんどでは、表面をオーバーコートでコーティングする必要もあります。 金、赤、緑、紫などの色を模した絵の具など、カラフルな絵の具が使用されることもあります。

改革開放以来、我が国の電気めっきの生産と加工は急速な発展を遂げました。 規模も生産量も世界最大の電気めっき国の仲間入りを果たしています。 金属電気めっきの加工と生産では、電気めっきプロセスに従い、科学的に生産する必要があります。

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