真空電気めっき電熱管フィルム材料の作製技術の概要

真空電気めっき電熱管フィルム材料の作製技術の概要

薄膜材料は基板材料 (スクリーン ディスプレイ ガラス、光学ガラスなど) 上で成長し、一般に金属、非金属、合金、化合物などの材料をコーティングすることによって形成されます。 、干渉、保護、防水性と防汚性、帯電防止、導電性、透磁性、絶縁性、耐摩耗性、耐高温性、耐食性、耐酸化性、放射線保護、装飾および複合機能、製品の品質、環境を向上させることができます。保護、省エネ、製品寿命の延長、本来の性能の向上など。

真空電気めっき電熱管用PVD装飾コーティングの適用範囲

PVD 技術は、ドアや窓の金具、キッチンやバスルームの金具、ランプ、船舶用品、宝飾品、手工芸品、その他の装飾品の加工や製造に広く使用されています。

今日、PVD は日常のハードウェアの分野で非常に普及しており、多くのハードウェア メーカーが PVD ​​製品の開発と量産を開始しています。 PVD の豊富な色は非常に合わせやすく、過酷な環境に対する優れた耐性、洗浄が容易で色褪せない特性が消費者に人気です。 特に銅色シリーズの塗料は銅やメッキの代替として世界中で広く使用されています。

真空電気めっき電熱管用レーザー分子線エピタキシー (L-MBE)

レーザー分子線エピタキシー (L-MBE) は、近年開発された新しいタイプの薄膜作製技術です。 これは、分子線エピタキシー技術とパルスレーザー蒸着技術、および分子線エピタキシー条件下でのレーザー蒸着コーティング技術を有機的に組み合わせたものです。

L-MBEは、PLDの高い瞬間成膜速度（成分揮発時の熱バランスを考慮する必要がないなど）と、MBE手法を改良したMBEのリアルタイム検出機能を組み合わせたものです。

近年、薄膜技術および薄膜材料の開発は飛躍的に進み、その成果は目覚ましいものがあります。 オリジナルをベースに、イオンビーム強化蒸着技術、電気スパーク蒸着技術、電子ビーム物理蒸着技術、多層スプレー蒸着技術が次々に登場しました。

現在、チップ製造プロセスにおける主要な PVD ​​装置には、主にスパッタリング コーティング技術を使用したハード マスク (Hard Mask) PVD ​​装置、銅配線 (CuBS) PVD ​​およびアルミニウム パッド (Al PAD) PVD ​​が含まれています。

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