真空コーティング機の巻き取りシステムにおけるフィルム層の均一性を確保するため

真空コーティング機の巻き取りシステムにおけるフィルム層の均一性を確保するため

巻き取りシステムでは、フィルム層の均一性を確保するために、巻き取りシステムの線速度が一定でなければなりません。 基材の平坦性と巻き線の偏りがないことを保証するには、巻き取りシステム内の基材の張力が一定でなければなりません。 基板平坦化装置を備えています。 塗装部分にはバッフル板と水冷装置が必要です。 蒸着材料を連続的に供給する機構では、供給速度を一定かつ調整可能にする必要があります。

真空コーターの塗布工程の連続性

作業サイクル中にコーティングプロセスの連続性を維持するには、十分なコーティング材料（堆積材料）が必要です。 蒸発コイルめっきでは、十分な大きさのるつぼ、または連続供給機構が必要です。 マグネトロンスパッタリングでは、十分な大きさのターゲットが必要です。 真空環境を確保するには、上記の装置を密閉した真空容器に入れ、作業サイクル中の真空度の安定性を維持するために真空ユニットを設置する必要があります。

真空コーターの巻き戻しと巻き戻し

基材は、巻き出しおよび巻き戻し中にフィルムでコーティングされます。 コーティング部は真空巻線コーティング装置の作動部分です。 これは、素材の巻き取りロールと巻き戻しロールの間に配置されます。 作動部分の作動原理は、前述の抵抗蒸着、誘導蒸着、電子ビーム蒸着、マグネトロンスパッタリング、または他の真空コーティング法のいずれであってもよい。

第一に、めっきされる基板はフレキシブルな基板、すなわち、巻き取り性を有する基板である。

第二に、コーティングプロセスは連続的です。つまり、コーティングは作業サイクル内で連続的に実行されます。

第三に、コーティングプロセスは常に高真空環境で実行されます。

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